Quo vadis Nanotechnologie?
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- Vakuum in Forschung und Praxis, 2000, v. 12, n. 1, p. 20, doi. 10.1002/1522-2454(200002)12:1<20::AID-VIPR20>3.0.CO;2-O
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Oberflächenbehandlung von Polymeren mit Niederdruckplasmen.
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- Vakuum in Forschung und Praxis, 2000, v. 12, n. 1, p. 35, doi. 10.1002/1522-2454(200002)12:1<35::AID-VIPR35>3.0.CO;2-T
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Magnetoelectronics.
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- Vakuum in Forschung und Praxis, 2000, v. 12, n. 1, p. 41, doi. 10.1002/1522-2454(200002)12:1<41::AID-VIPR41>3.0.CO;2-E
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PVD-Beschichtung metallischer Platten und Bänder.
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- Vakuum in Forschung und Praxis, 2000, v. 12, n. 1, p. 45, doi. 10.1002/1522-2454(200002)12:1<45::AID-VIPR45>3.0.CO;2-R
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Innovative Anwendungen der Plasmatechnik.
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- Vakuum in Forschung und Praxis, 2000, v. 12, n. 1, p. 16, doi. 10.1002/1522-2454(200002)12:1<16::AID-VIPR16>3.0.CO;2-R
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Untersuchung des Plasmas für das reaktive Niedervolt-Ionenplattieren.
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- Vakuum in Forschung und Praxis, 2000, v. 12, n. 1, p. 25, doi. 10.1002/1522-2454(200002)12:1<25::AID-VIPR25>3.0.CO;2-V
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Abgasmanagement von Vakuumprozessen moderner Halbleiter-Produktionsanlagen.
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- Vakuum in Forschung und Praxis, 2000, v. 12, n. 1, p. 29, doi. 10.1002/1522-2454(200002)12:1<29::AID-VIPR29>3.0.CO;2-7
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