Works matching IS 0018019X AND DT 2009 AND VI 92 AND IP 6
1
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1085, doi. 10.1002/hlca.200800417
- LiGong Yao;
- HaiLi Liu;
- YueWei Guo;
- Ernesto Mollo
- Article
2
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1046, doi. 10.1002/hlca.200800409
- RolfA. Kramer;
- Willi Bannwarth
- Article
3
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1023, doi. 10.1002/hlca.200800398
- Soungkyoo Kim;
- Annette Oehlhof;
- Bernhard Beile;
- Herbert Meier
- Article
4
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1034
- Galmari Venkatachalam;
- Marion Heckenroth;
- Antonia Neels;
- Martin Albrecht
- Article
5
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1080, doi. 10.1002/hlca.200800378
- Boga Srinivas;
- VydyulaPavan Kumar;
- Regati Sridhar;
- VutukuriPrakash Reddy;
- YadavalliVenkataDurga Nageswar;
- KakulapatiRama Rao
- Article
6
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1217
- Ruchira Wangteeraprasert;
- Kittisak Likhitwitayawuid
- Article
7
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1224, doi. 10.1002/hlca.200990006
- Min Xu;
- Ming Zhang;
- YingJun Zhang;
- ChongRen Yang
- Article
8
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1167, doi. 10.1002/hlca.200900075
- Nicolas Bogliotti;
- Andrea Vasella
- Article
9
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1112
- Xuefeng Zhou;
- Xianwen Yang;
- KyungJin Lee;
- Lishu Wang;
- Si Zhang;
- Yonghong Liu
- Article
10
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1102, doi. 10.1002/hlca.200800413
- Zixing Shan;
- Xiaoyun Hu;
- Lin Hu;
- Xitian Peng
- Article
11
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1191, doi. 10.1002/hlca.200800428
- ChunYan Zhou;
- HaiYing Tang;
- Xiang Li;
- YiShu Sang
- Article
12
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. NA, doi. 10.1002/hlca.200990007
- Article
13
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1070, doi. 10.1002/hlca.200800392
- ShanShan Liu;
- Tong Zhou;
- ShuWei Zhang;
- LiJiang Xuan
- Article
14
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1198, doi. 10.1002/hlca.200800442
- HaiYang Liu;
- Wei Ni;
- ChangXiang Chen;
- YingTong Di;
- XiaoJiang Hao
- Article
15
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1118
- PeiJi Zhao;
- Juan Ma;
- ChunHua Lu;
- YueMao Shen
- Article
16
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1056, doi. 10.1002/hlca.200800412
- Article
17
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1134, doi. 10.1002/hlca.200900047
- Manuel Peifer;
- Fabio DeGiacomo;
- Martin Schandl;
- Andrea Vasella
- Article
18
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1092, doi. 10.1002/hlca.200800388
- Cumali Celik;
- Irem Kulu;
- Nuket Ocal;
- DieterE. Kaufmann
- Article
19
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1203, doi. 10.1002/hlca.200800429
- Tetsuro Ito;
- Naohito Abe;
- Masayoshi Oyama;
- Toshiyuki Tanaka;
- Jin Murata;
- Dedy Darnaedi;
- Munekazu Iinuma
- Article
20
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1126, doi. 10.1002/hlca.200800425
- LiMei Sun;
- HongLi Huang;
- WenHai Li;
- ZeDong Nan;
- GuiXia Zhao;
- ChengShan Yuan
- Article
21
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 6, p. 1184, doi. 10.1002/hlca.200800416
- Xiang Lin;
- PeiJi Zhao;
- Juan Ma;
- YaoJian Huang
- Article