Works matching AU Pan, Yun‐Xiang


Results: 22
    1
    2
    3
    4
    5
    6
    7
    8
    9
    10
    11
    12
    13
    14
    15
    16
    17
    18
    19

    Pulsed processing by cold plasma, applied to industrial emission control.

    Published in:
    Frontiers in Chemistry, 2024, p. 1, doi. 10.3389/fchem.2024.1386055
    By:
    • Heesch, E. J. M. Van;
    • Huiskamp, T.;
    • Yan, K.;
    • Beckers, F. J. C. M.;
    • Smulders, H. W. M.;
    • Winands, G. J. J.;
    • Lemmens, R. H. P.;
    • Blom, P. P. M.;
    • Segura, S. Davalos;
    • Hoeben, W. F. L. M.;
    • Paasen, S. V. B. Van;
    • Oorschot, J. J. Van;
    • Bonkestoter, A. G. A.;
    • Brand, M. L. J. Van Den;
    • Hennink, M.;
    • Smulders, R. W. J.;
    • Pemen, A. J. M.;
    • Laan, P. C. T. Van Der;
    • Neuber, Andreas;
    • Pan, Yun-Xiang
    Publication type:
    Article
    20
    21
    22