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横向磁场下坩埚转速对半导体级直拉单晶硅熔体中 流场与氧浓度的影响机制

Published in:

Journal of Synthetic Crystals, 2023, v. 52, n. 9, p. 1641

By:

• 王黎光;
• 芮 阳;
• 盛 旺;
• 马吟霜;
• 马 成;
• 陈炜南;
• 邹啟鹏;
• 杜朋轩;
• 黄柳青;
• 罗学涛

Publication type:

Article