Works matching AU 方亮


Results: 80
    1
    2

    气候因素对西辽河平原红小豆产量的影响.

    Published in:
    Journal of Anhui Agricultural Sciences, 2025, v. 53, n. 11, p. 210, doi. 10.3969/j.issn.0517-6611.2025.11.043
    By:
    • 齐佳睿;
    • 刘晓芳;
    • 王文迪;
    • 郭方亮;
    • 查干哈斯;
    • 周 祎;
    • 罗车力木格;
    • 苏日娜;
    • 包哈斯;
    • 张智勇
    Publication type:
    Article
    3
    4
    5
    6
    7
    8
    9
    10
    11
    12
    13
    14
    15

    多睾症 1 例报告并文献复习.

    Published in:
    National Journal of Andrology / Zhonghua Nankexue, 2016, v. 22, n. 1, p. 92, doi. 10.13263/j.cnki.nja.2016.01.021
    By:
    • 方正宇;
    • 张伟基;
    • 殷桂林;
    • 方 亮;
    • 付 成;
    • 江 唯
    Publication type:
    Article
    16
    17

    莱菔子化学成分的分离与鉴定.

    Published in:
    Shipin Kexue/ Food Science, 2018, v. 39, n. 6, p. 200, doi. 10.7506/spkx1002-6630-201806032
    By:
    • 金洪光;
    • 李玉全;
    • 凌 云;
    • 张丽芳;
    • 任 锦;
    • 方 亮;
    • 江慎华
    Publication type:
    Article
    18
    19
    20

    IX型胶原基因与骨肌系统疾病相关性的研究现状.

    Published in:
    China Journal of Orthopaedics & Traumatology / Zhongguo Gu Shang, 2019, v. 32, n. 1, p. 92, doi. 10.3969/j.issn.l003-0034.2019.01.021
    By:
    • 董睿;
    • 吴运瑶;
    • 方亮;
    • 应俊;
    • 张磊;
    • 许世兵;
    • 萍儿;
    • 红婷;
    • 肖鲁伟;
    • 童培建
    Publication type:
    Article
    21
    22
    23
    24
    25
    26
    27
    28
    29
    30
    31
    32

    TFT 栅极刻蚀负载效应及解决方案.

    Published in:
    Chinese Journal of Liquid Crystal & Displays, 2023, v. 38, n. 8, p. 1054, doi. 10.37188/CJLCD.2023-0105
    By:
    • 刘 丹;
    • 黄中浩;
    • 黄 晟;
    • 方 亮;
    • 陈启超;
    • 管 飞;
    • 吴良东;
    • 吴 旭;
    • 李砚秋;
    • 林鸿涛
    Publication type:
    Article
    33

    光刻胶剥离制程中的寄生栅极效应.

    Published in:
    Chinese Journal of Liquid Crystal & Displays, 2022, v. 37, n. 10, p. 1317, doi. 10.37188/CJLCD.2022-0160
    By:
    • 刘 丹;
    • 黄中浩;
    • 刘 毅;
    • 吴 旭;
    • 闵泰烨;
    • 管 飞;
    • 方 亮;
    • 齐成军;
    • 谌 伟;
    • 赵永强;
    • 宁智勇;
    • 方皓岚
    Publication type:
    Article
    34

    量产条件下ITO刻蚀液浓度变化及其影响.

    Published in:
    Chinese Journal of Liquid Crystal & Displays, 2021, v. 36, n. 4, p. 549, doi. 10.37188/CJLCD.2020-0223
    By:
    • 刘 丹;
    • 刘 毅;
    • 黄中浩;
    • 吴青友;
    • 吴 旭;
    • 田茂坤;
    • 宁智勇;
    • 管 飞;
    • 张 超;
    • 王兆君;
    • 闵泰烨;
    • 冯家海;
    • 樊 超;
    • 方 亮
    Publication type:
    Article
    35

    量产条件下ITO刻蚀液浓度变化及其影响.

    Published in:
    Chinese Journal of Liquid Crystal & Displays, 2021, v. 36, n. 2, p. 1, doi. 10.37188/CJLCD.2020-0223
    By:
    • 刘 丹;
    • 刘 毅;
    • 黄中浩;
    • 吴青友;
    • 吴 旭;
    • 田茂坤;
    • 宁智勇;
    • 管 飞;
    • 张 超1,;
    • 王兆君;
    • 闵泰烨;
    • 冯家海;
    • 樊 超;
    • 方 亮
    Publication type:
    Article
    36

    栅极坡度角对TFT器件制程的影响.

    Published in:
    Chinese Journal of Liquid Crystal & Displays, 2020, v. 35, n. 10, p. 1026, doi. 10.37188/YJYXS20203510.1026
    By:
    • 刘 丹;
    • 刘 毅;
    • 黄中浩;
    • 高坤坤;
    • 吴 旭;
    • 田茂坤;
    • 王 恺;
    • 张 超;
    • 王 瑞;
    • 闵泰烨;
    • 冯家海;
    • 方 亮
    Publication type:
    Article
    37

    光刻制程参数对光刻胶DICD 和锥角的影响.

    Published in:
    Chinese Journal of Liquid Crystal & Displays, 2019, v. 34, n. 2, p. 146, doi. 10.3788/YJYXS20193402.0146
    By:
    • 刘 丹;
    • 陈启超;
    • 黄 晟;
    • 秦 刚;
    • 高朋朋;
    • 陈 昊;
    • 蔡晓锐;
    • 王百强;
    • 冯家海;
    • 方 亮
    Publication type:
    Article
    38
    39
    40
    41
    42
    43
    44
    45
    46
    47
    48
    49
    50