Works matching IS 0018019X AND DT 2009 AND VI 92 AND IP 4
1
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 774
- RenQiang Mei;
- GuangMing Liu;
- ChunLin Long;
- YueHu Wang;
- YongXian Cheng
- Article
2
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 613, doi. 10.1002/hlca.200800361
- Roger Ramos;
- Brendan Manning;
- Anna Aviñó;
- Raimundo Gargallo;
- Ramon Eritja
- Article
3
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 716, doi. 10.1002/hlca.200800397
- Niels Bomholt;
- VyacheslavV. Filichev;
- ErikB. Pedersen
- Article
4
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 689
- Article
5
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 790, doi. 10.1002/hlca.200800369
- ZhaJun Zhan;
- XiaoYong Zhang;
- XiaoRong Hou;
- ChengPing Li;
- WeiGuang Shan
- Article
6
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 768
- YunHeng Shen;
- Min Lu;
- Jian Tang;
- Lei Shan;
- RunHui Liu;
- HuiLiang Li
- Article
7
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 740, doi. 10.1002/hlca.200800391
- Boonchoo Sritularak;
- Kittisak Likhitwitayawuid
- Article
8
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 668, doi. 10.1002/hlca.200800337
- HerbertM. Riepl;
- Melanie Kellermann
- Article
9
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 653
- YingTong Di;
- Qiang Zhang;
- Yu Zhang;
- ChenJian Tan;
- XiaoJiang Hao
- Article
10
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 753, doi. 10.1002/hlca.200800362
- András Simon;
- Noémi Tóth;
- Gábor Tóth;
- Zoltán Kele;
- Judit Groska;
- Mária Báthori
- Article
11
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 779, doi. 10.1002/hlca.200800342
- Francesca Clerici;
- Alessandro Casoni;
- Alessandro Contini;
- MariaL. Gelmi;
- Sara Pellegrino
- Article
12
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. NA, doi. 10.1002/hlca.200990004
- Article
13
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 709, doi. 10.1002/hlca.200800363
- Wenhui Ma;
- Xiaolin Ma;
- Yan Lu;
- Daofeng Chen
- Article
14
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 645, doi. 10.1002/hlca.200800347
- Tao Shen;
- XiaoNing Wang;
- HuiQing Yuan;
- Mei Ji;
- HongXiang Lou
- Article
15
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 745
- XiaoYu Liu;
- QiaoHong Chen;
- FengPeng Wang
- Article
16
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 623, doi. 10.1002/hlca.200800381
- Nizam Havare;
- DietmarA. Plattner
- Article
17
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 638, doi. 10.1002/hlca.200800312
- WenBo Xin;
- GuiXin Chou;
- ZhengTao Wang
- Article
18
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 762
- HaiFeng Tang;
- YangHua Yi;
- HouWen Lin
- Article
19
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 629, doi. 10.1002/hlca.200800345
- Article
20
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 731, doi. 10.1002/hlca.200800357
- Afsar Khan;
- ViqarU. Ahmad;
- Umar Farooq
- Article
21
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 677
- HuaFang Wu;
- WenBin Lin;
- LiZi Xia;
- YingGang Luo;
- XiaoZhen Chen;
- GuoYou Li;
- GuoLin Zhang;
- XinFu Pan
- Article
22
- Helvetica Chimica Acta, 2009, v. 92, n. 4, p. 660
- ShiFang Zhang;
- JingHan Liu
- Article