Development of Self‐Heated Stage Suitable for Thermal Assist Reactive Ion Etching of the Functional Metals.

Published in:

Electronics & Communications in Japan, 2018, v. 101, n. 3, p. 96, doi. 10.1002/ecj.12046

By:

• MURATA, Y. U. K. I.;
• HAN, G. A. N. G.;
• OHKAWA, D. A. I. K. I.;
• IMAI, J. U. N. I. C. H. I.;
• SOHGAWA, M. A. S. A. Y. U. K. I.;
• ABE, T. A. K. A. S. H. I.

Publication type:

Article