Nanoskalige Faserausrüstungen auf SiO2-Basis zur Verbesserung des Abreinigungsverhaltens von Filtermedien werden immer wichtiger, da konventionelle Fluorcarbon-Ausrüstungen nicht temperaturbeständig sind (> ca. 150 °C). Gleichzeitig können sie Fasereigenschaften verbessern und Anforderungen hinsichtlich chemischer Beständigkeit und mechanischer Abrasion besser erfüllen.